當(dāng)大家在接觸等離子機(jī)的時候,有時候會聽說“等離子鞘層”,今天就和大家來介紹介紹這方面的內(nèi)容。

對于等離子鞘層的理解,通俗的來說就好像是把劍放在劍鞘里,將劍與外界所隔開,因此保護(hù)等離子體。這就是鞘層比較通俗直觀的理解。對于等離子體來說,同樣也存在鞘層。

等離子清洗機(jī).jpg

在操作過程中我們可以發(fā)現(xiàn),等離子清洗機(jī)形成的等離子體與設(shè)備腔壁之間或者是在處理指定的固體物件時的相鄰交界處,會產(chǎn)生一層電位的薄層,明顯偏離電中性,薄層把等離子包圍起來,稱為等離子鞘層,又名等離子體鞘。 

對于等離子有一定了解的朋友們都知道,等離子清洗機(jī)產(chǎn)生的電子溫度和離子溫度都比較低,屬于低溫等離子體,在離子被鞘層電位加速,具有單一的能量,電子密度的變化符合玻爾茲曼分布規(guī)律。

等離子清洗機(jī).jpg

等離子體鞘層在磁控濺射中的作用至關(guān)重要。考慮在一個平行的平板結(jié)構(gòu),內(nèi)部有均勻分布的等離子體,由于電子的質(zhì)量輕,離子的質(zhì)量遠(yuǎn)高于電子,在考慮壁面吸收的邊界條件下,電子運動到邊界,因此壁面帶負(fù)電,因此在靠近壁面處,電子的數(shù)量低于離子的數(shù)量,因此相對于邊界來說,為正電勢,該正電勢會阻止電子到壁面的運動,同時會加速離子到壁面,從而造成壁面的濺射,從而完成對對材料的刻蝕以及表面處理。

等離子體的刻蝕在等離子體的研究中具有很重要的作用,幾乎所有的放電等離子體都在邊界處存在鞘層。因此鞘層的研究具有重要的意義,對于鞘層的模擬有粒子模擬和流體模擬兩種方法。

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