PTFE也就是聚四氟乙烯，這種高分子的材料擁有出色的實(shí)用性，廣泛應(yīng)用在原子能、醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體等行業(yè)，可制做成薄膜、管板棒、軸承、墊圈、閥門及化工管道、管件、設(shè)備容器等部件；在使用中，我們可以使用ptfe蝕刻設(shè)備（ptfe等離子表面處理設(shè)備）進(jìn)行表面處理，解決材料表面刻蝕問題，方便工藝制造。

1、等離子刻蝕原理介紹

等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

2、等離子刻蝕應(yīng)用領(lǐng)域

如：等離子體清除浮渣、光阻材料剝離、表面處理、各向異性和各向同性失效分析應(yīng)用材料改性、包裝清洗、鈍化層蝕刻、聚亞酰胺蝕刻、增強(qiáng)粘接力、生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用、聚合反應(yīng)、混合物清洗、預(yù)結(jié)合清洗等。

3、等離子刻蝕優(yōu)勢介紹

3-1 材料廣闊：從微芯片到完整尺寸的卷材，任何形狀或復(fù)雜程度的基材，如膠帶，片材，管材，模壓形狀和任何配置的機(jī)加工部件，都可以進(jìn)行蝕刻和粘合。

3-2 干法刻蝕：利用等離子體中的化學(xué)活性原子團(tuán)與被刻蝕材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，整個過程無需水和化學(xué)溶劑的參與，更加環(huán)保。

3-3 工藝健康：等離子體產(chǎn)生只需電與工藝氣體，不會產(chǎn)生有害物質(zhì)，對操作人員的身體沒有傷害；設(shè)備操作也非常簡單，智能化的操作屏，上手容易。

目前 刻蝕技術(shù)按工藝分類可分為濕法刻蝕和干法刻蝕，隨著技術(shù)以及工藝的不斷進(jìn)步，干法刻蝕逐漸成為主流；國產(chǎn)等離子蝕刻設(shè)備不斷進(jìn)步，逐步取代了進(jìn)口設(shè)備，成為市場上的新選擇。