在半導(dǎo)體行業(yè)中，各項(xiàng)制程都能用到等離子清洗機(jī)，比如等離子去膠工藝，這個工藝會影響產(chǎn)品的處理效果，對產(chǎn)品的成品率有重要的影響，那么普樂斯給大家介紹下影響工藝效果的幾個因素。

1、射頻功率：功率決定了等離子體的能量，處理表面光刻膠時，功率越大，越能形成大量的等離子體，效率也就越高，但這是有上限的，因?yàn)槟芰吭酱?，腔體內(nèi)溫度就會越高，過高就會損壞材料，我們要選擇合適的功率。

2、氣體因素：氣體的流向、流量都會影響到產(chǎn)品處理的效果，在等離子去膠工藝中一般采用石英材質(zhì)的腔體，其它垂直留下，讓氣體更多的覆蓋材料的表面，這時候就需要考慮氣體流量，過大過小都會影響處理的效果，可以多次測試，找到合適數(shù)值，這樣就能均勻的處理，獲得好的效果。

3、清洗時間：在參數(shù)不變的狀況下，處理時間越長，去除的殘膠越多，但隨著長時間的反應(yīng)，腔體內(nèi)的溫度也會不斷的升高，這時候我們需要注意那些易損件，防止高溫?fù)p壞，所以清洗的時間一般控制在30秒到180秒之間。

4、腔體大?。呵惑w的大小決定了處理數(shù)量，裝載過多的產(chǎn)品在里面，就會讓光刻膠在等離子體中的接觸面積過低，影響處理的效果，所以腔體的設(shè)計(jì)非常重要。

這些就是常見的影響因素，我們在產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及生產(chǎn)的過程中都需要考慮這些問題，但是設(shè)備制造完成，我們需要對樣品進(jìn)行試樣，找到合適的參數(shù)，穩(wěn)定處理的效果，讓客戶滿意。