在光刻工藝中，產(chǎn)品的表面會(huì)有底膠以及光刻膠的殘留，這就需要好的方式進(jìn)行清理，不能損傷產(chǎn)品的表面同時(shí)要清理的干凈而徹底，今天我們介紹的方式就是等離子清洗機(jī)，通過(guò)等離子體進(jìn)行表面處理，清洗殘膠，效果到底如何呢？

一、等離子清洗機(jī)去膠工藝原理

等離子清洗機(jī)的去膠是一種干式的去膠方法，將產(chǎn)品放入設(shè)備中，通過(guò)真空泵抽氣，讓產(chǎn)品處于真空狀態(tài)下，放入工藝氣體進(jìn)行放單反應(yīng)，這樣就會(huì)生成具有活性的等離子體，它與表面的殘膠進(jìn)行反應(yīng)；光刻膠的基本成分為碳?xì)浠衔?，在反?yīng)中，這些化合物會(huì)消失，并生成一氧化碳、二氧化碳、水等等，這些物質(zhì)會(huì)被真空泵抽走，表面的清洗工作就完成了。

二、等離子清洗機(jī)去膠工藝優(yōu)勢(shì)

在過(guò)去，很多工廠(chǎng)都采用的濕式處理法，但是隨著技術(shù)不斷變革，產(chǎn)品不斷升級(jí)，處理要求也隨之升級(jí)，干式法逐步取代了濕式處理；

等離子清洗機(jī)的去膠只需氣體的參與，無(wú)需化學(xué)試劑的浸泡，無(wú)需烘干，整個(gè)處理環(huán)保感覺(jué)，清洗過(guò)程可控性非常強(qiáng)，而且不會(huì)對(duì)周?chē)h(huán)境以及人員造成不良的影響；這種工藝還能夠降低成本，提高產(chǎn)品的良品率以及生產(chǎn)效率，所以設(shè)備在半導(dǎo)體制程的各類(lèi)方面都廣泛的得到了應(yīng)用。

去膠工藝在半導(dǎo)體制程中非常重要，清洗的是否干凈徹底，對(duì)表面是否有損傷等等，都會(huì)影響到后續(xù)工藝，進(jìn)而影響整體的生產(chǎn)制造以及性能，對(duì)成品率起到重要的影響，一個(gè)好的處理工藝能夠?qū)Ξa(chǎn)品的影響由此可見(jiàn)，等離子清洗機(jī)設(shè)備也能夠有效的提高公司的利潤(rùn)。