真空等離子清洗設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面清洗和表面改性的設(shè)備。它主要由真空系統(tǒng)、等離子體發(fā)生器、真空室、氣體控制系統(tǒng)、PLC控制系統(tǒng)等部分組成。

真空等離子清洗設(shè)備工作原理

真空等離子清洗設(shè)備通過將樣品置于真空室內(nèi)并通過氣體控制系統(tǒng)控制真空度和工藝氣體流量，使得工藝氣體在真空室內(nèi)被電離形成等離子體。等離子體同時(shí)具有高溫、高能、高活性的特點(diǎn)，在作用下可以將樣品表面的污染物和雜質(zhì)物質(zhì)清除，同時(shí)也可以在表面形成新的化學(xué)鍵和化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)物，實(shí)現(xiàn)表面改性的目的。

真空等離子清洗設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

真空等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、生物醫(yī)藥、航空航天等領(lǐng)域。用于清洗各類半導(dǎo)體器件、光學(xué)器件、生物醫(yī)學(xué)器械等。

真空等離子清洗設(shè)備優(yōu)點(diǎn)

清洗效果好，可以清除表面各類污染和雜質(zhì)，達(dá)到高純度的清洗效果。

清洗速度快，清洗時(shí)間短，可以大幅提高生產(chǎn)效率。

清洗過程無化學(xué)反應(yīng)，無需使用化學(xué)試劑，環(huán)保無污染。

可以實(shí)現(xiàn)表面改性和表面涂覆等功能，具有更廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。 總之，真空等離子清洗設(shè)備是一種高效、環(huán)保、多功能的表面清洗和改性設(shè)備，將在各個(gè)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。