晶圓在半導(dǎo)體中的重要性大家應(yīng)該都知道，隨著工藝以及技術(shù)的不斷進(jìn)步，對(duì)晶圓的需求以及要求越發(fā)嚴(yán)格，今天我們來(lái)聊聊晶圓等離子清洗機(jī)能夠發(fā)揮什么樣作用？

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1、晶圓等離子清洗機(jī)

為了符合晶圓生產(chǎn)工藝需求制作的設(shè)備，在設(shè)計(jì)、應(yīng)用等方面需要滿足晶圓工藝的特殊需求；如：晶圓是圓形的，我們?cè)谇惑w設(shè)計(jì)及工作區(qū)域設(shè)計(jì)需要考慮到這一點(diǎn)；晶圓表面清潔度要求，對(duì)整個(gè)處理環(huán)境有要求等等；所以晶圓等離子清洗機(jī)與常規(guī)的等離子清洗機(jī)設(shè)備是不一樣的。

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2、晶圓等離子清洗機(jī)優(yōu)勢(shì)

2-1：能夠解決表面清洗難題的同時(shí)提供改性活化作用，方便后續(xù)黏晶、封膠、點(diǎn)膠等等工藝；

2-2：附著力的提高可以讓粘接更加牢固，減少分層，杜絕氣泡；

2-3：通過(guò)激光工藝打穿的小孔，溶劑難以清洗，而等離子體可以輕松進(jìn)入；

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晶圓等離子清洗機(jī)在晶圓工藝中作用遠(yuǎn)遠(yuǎn)不止這些，晶圓片等離子清洗機(jī)可用于成批剝離，材料包括光致抗蝕劑，氧化物，氨化物蝕刻，電介質(zhì)。硅片去除污染物和氧化物，提高粘接率和可靠性等等。正是這種普適性的應(yīng)用讓等離子清洗工藝快速發(fā)展，解決一個(gè)個(gè)難題。