等離子刻蝕是等離子表面工藝的一個應(yīng)用方向，這是通過電離形成的等離子體與需要處理的材料表面進行結(jié)合，兩者發(fā)生反應(yīng)，生產(chǎn)揮發(fā)性的物質(zhì)，通過真空抽走，最終完成對表面的處理。

一、等離子刻蝕設(shè)備介紹

等離子刻蝕設(shè)備主要由鈑金外觀、電源系統(tǒng)、真空腔體、氣體控制系統(tǒng)、PLC控制等等組成；用戶通過操作系統(tǒng)（PLC）對整個設(shè)備進行操作以及工藝參數(shù)的調(diào)整；不過需要注意的是：這類設(shè)備一般都是定制的，廠家根據(jù)客戶本身需求、產(chǎn)品外觀等等特點進行設(shè)計制造。

二、等離子刻蝕處理模式

直接模式：產(chǎn)品直接平行放入腔體內(nèi)部，對于平整的產(chǎn)品能夠達到好的刻蝕效果。

定向模式：產(chǎn)品比較特殊，需要獨特的設(shè)計，這時候就需要對腔體、托架等進行定制設(shè)計；

下游模式：需要較小的刻蝕效果，產(chǎn)品放置于不帶電托架上，減少刻蝕反應(yīng)，達到自己需要的效果；

定制模式：直接模式下效果不理想，這時候可以對整個設(shè)備進行定制；

三、等離子刻蝕工藝優(yōu)勢

1、等離子刻蝕是干法刻蝕，能夠減少化學(xué)刻蝕帶來的成本；

2、減少化學(xué)刻蝕帶來的廢棄物處理的麻煩，更加環(huán)保；

3、設(shè)備、配方等等調(diào)整后，可以保障每批次的產(chǎn)品處理穩(wěn)定；

等離子刻蝕設(shè)備已經(jīng)在各種行業(yè)中得到了應(yīng)用，并且獲得很多行業(yè)的認可，能夠幫助他們解決材料、產(chǎn)品的表面處理難題。