等離子體清洗設(shè)備是用材料表面處理的一種設(shè)備類型，能夠提供清洗、活化、改性的功能，是各種行業(yè)解決表面處理難題的保障。

等離子體清洗設(shè)備介紹

效果快捷： 整個處理過程非?？旖?，工藝氣體進(jìn)入的后，放電進(jìn)行，輝光照耀幾秒就能完成處理。

效果穩(wěn)定：每個批次處理的一致性好，能夠保障每次處理帶來的效果都是一樣的。

不損傷產(chǎn)品：配方調(diào)整好后，無需進(jìn)行改動，處理時不會對產(chǎn)品造成損傷；

應(yīng)用范圍廣：各類產(chǎn)品、各類材料都能進(jìn)行處理，當(dāng)產(chǎn)品出現(xiàn)變動時，只需對部分結(jié)構(gòu)或配方進(jìn)行調(diào)整，就能繼續(xù)使用。

成本低：整個設(shè)備運(yùn)行成本很低，只有氣體、電力，定期的設(shè)備維護(hù)，相比濕法處理減少了溶劑、水的后續(xù)處理需求，也更加綠色環(huán)保。

等離子體清洗設(shè)備參數(shù)

設(shè)備型號：PM/R-110LN

整機(jī)規(guī)格：W1000×D1200×H1700mm

腔體尺寸：W1000×D1200×H1700mm

托架規(guī)格：鋁合金（標(biāo)配）/不銹鋼（可選）

額定功率：5KW

機(jī)臺供電：AC-380V

等離子體清洗設(shè)備已經(jīng)成為很多廠家進(jìn)行產(chǎn)品表面處理的選擇，是解決金屬、半導(dǎo)體、氧化物、殘膠、高分子材料不錯的選擇。