電漿刻蝕機是一種利用等離子體（電漿）對材料表面進行清洗的設備。產(chǎn)品可以提供穩(wěn)定的表面處理效果，帶來改性、刻蝕等多種用途。

電漿刻蝕機原理

等離子體(plasma)又叫做電漿，設備的核心就是等離子體，它是很好的導電體，通過磁場可以移動、加速等離子體，通過其特性在材料、能源、環(huán)境、物理等多個領域帶來幫助；電漿刻蝕機通過等離子發(fā)生器產(chǎn)生的等離子體對產(chǎn)品表面進行處理，與表面進行化學反應生產(chǎn)揮發(fā)性物質(zhì)，在表面形成需要的圖案以及紋路，達到刻蝕的目標。

電漿刻蝕機應用

芯片制造：利用純四氟化碳氣體或四氟化碳與氧氣結(jié)合，可在晶圓上形成微米級氮化硅刻蝕，四氟化碳與氧氣、氫氣結(jié)合可去除四氟化碳。

電路板制造：隨著行業(yè)發(fā)展，電路板越來越小，上面孔也越來越小，傳統(tǒng)的藥劑清洗難以處理微孔問題，等離子體具有很強的擴散性，因此產(chǎn)生的刻蝕氣相等離子體可以有效刻蝕微米級孔洞，通過調(diào)整工藝參數(shù)可以控制咬蝕量。

電漿刻蝕機在很多行業(yè)都得到了廣泛應用，解決很多材料表面處理上的難題，廠家可以根據(jù)自身需求進行產(chǎn)品定制以滿足生產(chǎn)中的應用。