等離子體處理設(shè)備是利用等離子體對物品進行處理，解決表面難題的設(shè)備；設(shè)備運行時，腔體內(nèi)部產(chǎn)生高能電場，氣體被電離成等離子體，等離子體有良好導電性與產(chǎn)品接觸反應(yīng)，帶來物理、化學等多種變化，達到清洗、活化、刻蝕等多種目的。

等離子體處理設(shè)備類型

1. 等離子體清洗設(shè)備：利用等離子體對表面進行清洗和去污的設(shè)備，可以去除表面的有機物、金屬氧化物、氧化鐵等污染物。

2. 等離子體刻蝕設(shè)備：利用等離子體對材料表面進行刻蝕的設(shè)備，也就是腐蝕表面形成如線路圖等形狀，可以進行微細加工和制造。

3. 等離子體鍍膜設(shè)備：利用等離子體與材料進行反應(yīng)，在物體表面形成膜，均勻的覆蓋在產(chǎn)品上，可以制造具有特殊功能的材料表面。

4. 等離子體增強設(shè)備：利用等離子體對材料表面進行改性的設(shè)備，可以提高材料的硬度、抗磨性、耐腐蝕性等性能。

等離子體處理設(shè)備種類非常多，同時設(shè)備非標品較多，很多都是根據(jù)工藝進行定制，所以要根據(jù)自己時間使用需求進行產(chǎn)品選擇。設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導體、電子、新能源、高分子、醫(yī)療器械、汽車制造等多個行業(yè)中。