等離子清洗設(shè)備原理是利用等離子體技術(shù)對工件進行表面處理的設(shè)備，那么它的原理是什么樣的呢？

在高頻電場下，氣體分子被電離形成等離子體，等離子體由離子、電子、自由基等組成，它們轟擊產(chǎn)品表面或與之發(fā)生反應(yīng)，從而達到去除表面有機物、無機物、氧化物等污染物的目的。

形象點講就是，高能電場下，氣體分子吸收了大量能量形成等離子體，低離子體中的各種微粒轟擊在產(chǎn)品上，污染物被撞擊脫落，或分解或轉(zhuǎn)換成其它物質(zhì)，如：碳化物反應(yīng)生成一氧化碳、二氧化碳，氧化物反應(yīng)生成水分子等等，這些都將通過真空泵抽離，通過物理、化學(xué)的多種反應(yīng)，等離子清洗設(shè)備完成了清洗的工作。

需要注意的是，很多廠家需求的不是清洗工件表面的污染物，而是它表面活化、改性的效果，通過這種方式解決產(chǎn)品表面粘接力不夠、親水性一般、涂覆效果差等問題。等離子體是如何做到呢？

等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到產(chǎn)品表面時，它原本的化學(xué)鍵會發(fā)生斷裂，產(chǎn)生新的結(jié)構(gòu)，表面粗糙度提高，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都是活性基團，表面的活性也得到變化。