- 等離子去膠機:用于去除基片表面刻蝕工藝過程中作為刻蝕材料保護膜的光刻膠掩膜,也可用于基片表面其它有機物的等離子體清洗。
氧氣是干式等離子體脫膠技術(shù)中的首要腐蝕氣體。它在真空等離子體脫膠機反應(yīng)室內(nèi)高頻和微波能的作用下，電離產(chǎn)生氧離子、自由氧原子O*、氧分子和電子混合的等離子體，其間氧化能力強的自由氧原子（約10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜發(fā)生反應(yīng)：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應(yīng)后產(chǎn)生的CO2和H2O然后被抽走。
觸摸屏操作界面
數(shù)字及圖標多重工藝參數(shù)實時顯示
三色燈異常報警功能
自動/手動操作模式切換
可存儲多套工藝配方
遠程操控，數(shù)據(jù)導出（可選）
特殊電極、保溫、氣路設(shè)計，均勻性好
適用4寸以下硅晶圓的批量處理
用于去除基片表面刻蝕工藝過程中作為刻蝕材料保護膜的光刻膠掩膜,也可用于基片表面其它有機物的等離子體清洗。
型號 | ASR-36L | |
控制系統(tǒng) | 控制方式 | 全自動控制（自動/手動切換） |
PLC（標配）/PC（可選） | ||
操作系統(tǒng) | Windows 10 | |
觸摸屏 | 7寸 | |
整機規(guī)格 | 尺寸 | W950×D1050×H1700mm |
腔體 | 尺寸 | Φ360×D360mm |
材質(zhì) | 鋁合金（標配）/不銹鋼（可選） | |
電極 | 尺寸 | W250×D310×H140mm |
層數(shù) | 2層 | |
托架 | 材質(zhì) | 鋁合金（標配）/石英（可選） |
套數(shù) | 1套 | |
真空計 | 皮拉尼式真空計 | 1個 |
流量計 | MFC質(zhì)量流量控制器 | 3個；Ar、N2、O2、CF4（可選） |
真空泵 | 干式泵 | 1套 |
發(fā)生器 | 射頻 | 13.56MHz，0~1000W |
額定功率 | 整機峰值功率 | 13KW |
機臺供電 | 三相五線式 | AC-380V |
選購品 | 防腐流量計、防腐真空計、防腐真空泵、防腐密封圈、石英舟、溫度傳感器、慢速泄氣閥、慢速抽氣閥、鋼瓶減壓閥、非標法蘭、陶瓷緊固件 | |
